2025-627
無掩膜光刻（MasklessLithography），也被稱為直寫光刻（Direct-WriteLithography），是一種不同于傳統(tǒng)光刻技術(shù)的先進制造工藝。在傳統(tǒng)的光刻過程中，需要使用預(yù)先設(shè)計好的掩膜版來定義圖案，這些掩膜版成本較高且制作時間較長。相比之下，無掩膜光刻直接通過計算機控制光束（如電子束、離子束或激光）在光敏材料（光刻膠）上繪制所需的微細圖案，無需使用物理掩膜版。無掩膜光刻的主要特點：1、靈活性高：由于不需要物理掩膜，可以在短時間內(nèi)對圖案進行修改和調(diào)整，特別...
查看更多2025-627
光子引線鍵合（PhotonicsWireBonding）是一種先進的集成光學(xué)技術(shù)，旨在實現(xiàn)光子集成電路（PhotonicIntegratedCircuits,PICs）之間的高效連接。這項技術(shù)是傳統(tǒng)電子引線鍵合的一種光學(xué)類比，但其目的是在保持或提高光學(xué)性能的同時，提供靈活、緊湊的光路互連解決方案。光子引線鍵合通常涉及到使用一種特殊的聚合物材料或者通過直接寫入的方式（比如利用飛秒激光直寫技術(shù)），在兩個光子元件之間構(gòu)建出一條具有精確幾何形狀和折射率分布的波導(dǎo)路徑。這種路徑能夠有效...
查看更多2025-624
無掩膜直寫光刻設(shè)備定義為一種無需物理掩膜版、通過計算機控制的高精度光束（如激光束或數(shù)字微鏡器件）直接在光刻膠或感光材料的基材上曝光圖形的微納加工設(shè)備，適用于微納米級圖形制備。其核心技術(shù)基于光學(xué)或帶電粒子束（如激光直寫、DMD投影）直接掃描或投影圖案，消除了掩膜版制作環(huán)節(jié)，實現(xiàn)高精度圖形轉(zhuǎn)移。設(shè)備的核心優(yōu)勢包括高靈活性、快速原型制造能力，以及顯著降低研發(fā)成本和時間周期。主要應(yīng)用于科研機構(gòu)、實驗室及小批量工業(yè)原型制造（如微流控芯片、半導(dǎo)體器件開發(fā)）。?工作原理?：?激光直寫技術(shù)?...
查看更多2025-613
在半導(dǎo)體芯片尺寸不斷縮小、集成度持續(xù)提升的今天，傳統(tǒng)電弧焊接或超聲鍵合技術(shù)逐漸面臨精度與熱損傷的瓶頸。而一種基于光子學(xué)的新興技術(shù)——光子引線鍵合打印系統(tǒng)，正以“光為刀、精度為尺”的方式，重新定義微納尺度下的連接工藝。它通過飛秒激光的冷加工特性與納米級定位系統(tǒng)，實現(xiàn)了芯片引線鍵合的超高精度、低損傷與高效率，成為先進封裝領(lǐng)域的重要突破口。一、技術(shù)原理：光與物質(zhì)的“精準(zhǔn)對話”光子引線鍵合的核心在于利用飛秒激光的物理特性。飛秒激光脈沖時間短（1飛秒=10?1?秒），能量瞬間釋放，足以...
查看更多2025-611
一、引言全自動顯影機是半導(dǎo)體制造工藝中設(shè)備，廣泛應(yīng)用于集成電路、LED、顯示面板等領(lǐng)域。它通過自動化流程實現(xiàn)光刻膠的涂布和顯影，確保半導(dǎo)體器件的質(zhì)量和性能。二、工作原理全自動顯影機的工作原理基于光刻膠的涂布和顯影過程。首先，通過涂膠單元將光刻膠均勻地涂布在晶圓表面。隨后，經(jīng)過曝光處理的晶圓進入顯影單元，顯影液通過噴嘴均勻噴淋在晶圓表面，溶解未曝光的光刻膠，形成所需的圖案。三、技術(shù)特點（一）高精度控制具備高精度的涂膠和顯影控制能力，能夠?qū)崿F(xiàn)片內(nèi)均勻性小于3%，顯影均勻性小于5%...
查看更多2025-429
MJ-Works-Fiber是一款專為光纖傳感與光通信應(yīng)用而生的超高精度加工而設(shè)計的高性能3D激光直寫設(shè)備，配有超清成像及納米級定位對準(zhǔn)系統(tǒng)，可實現(xiàn)在光纖纖芯或光芯片表面及內(nèi)部進行納米級3D加工。配備有專門的卷對卷光纖自動輸送裝置，并配有應(yīng)力監(jiān)測，纖芯自動識別、定位及對準(zhǔn)，實現(xiàn)高通量精準(zhǔn)快速生產(chǎn)。主要特點：復(fù)雜3D微光學(xué)元件、激光能量穩(wěn)定系統(tǒng)、高能飛秒激光脈沖改性、支持光纖和光纖陣列、高精度纖芯定位、光纖專用夾具、實時超清顯微成像、光斑整形。激光直寫是制作衍射光學(xué)元件的主要技...
查看更多2025-315
在現(xiàn)代印刷和半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，自動顯影機作為一種高效的自動化設(shè)備，正逐漸成為提升生產(chǎn)效率、確保產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵工具。它不僅廣泛應(yīng)用于傳統(tǒng)的印刷行業(yè)，還在微電子制造、納米材料制備等領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。一、工作原理與系統(tǒng)組成自動顯影機的主要功能是將曬制好的印版或光刻膠版通過顯影、沖洗、涂膠、烘干等工序一次性完成處理。其核心工作原理是利用化學(xué)顯影液將曝光后的感光層溶解，從而顯現(xiàn)圖像或電路圖案。設(shè)備通常由以下幾個關(guān)鍵系統(tǒng)組成：1.傳動系統(tǒng)：通過電機驅(qū)動傳送輥和壓膠輥，引導(dǎo)印版或硅片在顯影...
查看更多2025-219
在微納制造領(lǐng)域，三維直寫光刻機正以其技術(shù)優(yōu)勢，開啟微結(jié)構(gòu)制造的新紀(jì)元。這種將精密光學(xué)與智能控制結(jié)合的設(shè)備，正在重新定義微納加工的邊界。三維直寫光刻機的核心技術(shù)在于其創(chuàng)新的光路系統(tǒng)。采用數(shù)字微鏡器件(DMD)和高精度物鏡組，結(jié)合三維運動平臺，實現(xiàn)了復(fù)雜三維結(jié)構(gòu)的精確成型。在生物醫(yī)療領(lǐng)域，這種技術(shù)使得微流控芯片的制造成為可能；在光子晶體研究中，它實現(xiàn)了復(fù)雜光學(xué)結(jié)構(gòu)的精準(zhǔn)加工。在性能特點上，三維直寫光刻機展現(xiàn)出三大技術(shù)優(yōu)勢：首先是加工精度高，可實現(xiàn)亞微米級的分辨率；其次是靈活性好，...
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